MKS RPS AX7695远程等离子体源

MKS RPS AX7695LAM 810-802902-208
LAM 853-312741-001
LAM 853-312741-001
LAM 810-802901-004
LAM 0100-03974
LAM 0100-04221W
LAM 332-000474-000
LAM 504722-09301324
LAM 605-064676-003
LAM 605-064676-003
LAM 605-109114-002
LAM 810-013872-108
LAM 810-028295-170
LAM 810-028296-160
LAM 810-048219-015
LAM 810-073479-005
LAM 810-328372-007
LAM 810-335630-402
LAM 810-800082-309
LAM 810-800082-311

分类: 标签:

Description

MKS RPS AX7695

MKS RPS AX7695 模块是一款由MKS Instruments公司生产的高性能远程等离子体源。它广泛应用于半导体制造、平板显示器制造等领域,用于对晶圆等材料进行表面处理。

产品名称及型号

  • 产品名称: MKS R*evolution III Remote Plasma Source
  • 型号: AX7695

产品描述

AX7695 模块是一种集成式远程等离子体源,能够在晶圆表面产生高密度、均匀的等离子体。它被设计用于在不接触晶圆的情况下进行等离子体处理,从而避免对晶圆造成机械损伤。

产品参数(部分)

  • 等离子体类型: 高密度等离子体
  • 应用: 半导体制造,平板显示器制造
  • 冷却: 水冷
  • 控制接口: 数字控制
  • 气体类型: 可处理多种气体,包括惰性气体和反应性气体

产品特点

  • 高密度等离子体: 提供高密度等离子体,增强处理效果。
  • 均匀性好: 等离子体分布均匀,保证处理的一致性。
  • 远程处理: 不接触晶圆,避免损伤。
  • 灵活配置: 可根据不同工艺需求进行配置。