810-001489-016 LAM 气体处理设备

产品应用

810-001489-016 LAM 可以处理多种类型的气体,包括但不限于以下应用场景:

  • 半导体制造
  • 干法腐蚀
  • 薄膜生长
  • 材料表面处理
分类:

Description

810-001489-016 LAM 产品说明

810-001489-016 LAM 是一款高效的气体处理设备,特别适用于半导体制造和相关工业领域。该设备可以处理多种类型的气体,包括但不限于氟、氯、氮、二氧化硅等。

产品参数

  • 尺寸:1200mm x 800mm x 1800mm
  • 重量:400kg
  • 连接口径:DN25
  • 真空泵速:90L/s
  • 处理能力:1000 sccm

产品规格

  • 处理气体类型:氟、氯、氮、二氧化硅等
  • 运行温度:10°C – 40°C
  • 运行湿度:10% – 90% RH
  • 最大工作压力:2.5 × 10^-6 torr
  • 电源:AC 220V / 50Hz

产品应用

810-001489-016 LAM 可以处理多种类型的气体,包括但不限于以下应用场景:

  • 半导体制造
  • 干法腐蚀
  • 薄膜生长
  • 材料表面处理